Brak produktów
Przenośna lampa inspekcyjna doskonale imitująca światło dzienne. Redukuje ryzyko drogich poprawek i powrotów klientów w związku z niedopasowaniem koloru, niedopolerowaną powierzchnią w wyniku nieodpowiedniego oświetlenia lakierni.
Arkusz ścierny 30627. Innowacyjna budowa materiału ściernego z równomiernie rozłożonymi otworami do odsysu pyłu w połączeniu z nową linią akcesoriów, to optymalne rozwiązanie do efektywnego szlifowania.
Arkusz ścierny 30627. Innowacyjna budowa materiału ściernego z równomiernie rozłożonymi otworami do odsysu pyłu w połączeniu z nową linią akcesoriów, to optymalne rozwiązanie do efektywnego szlifowania.
Arkusz ścierny. Innowacyjna budowa materiału ściernego z równomiernie rozłożonymi otworami do odsysu pyłu w połączeniu z nową linią akcesoriów, to optymalne rozwiązanie do efektywnego szlifowania.
Arkusz ścierny. Innowacyjna budowa materiału ściernego z równomiernie rozłożonymi otworami do odsysu pyłu w połączeniu z nową linią akcesoriów, to optymalne rozwiązanie do efektywnego szlifowania.
Arkusz ścierny. Innowacyjna budowa materiału ściernego z równomiernie rozłożonymi otworami do odsysu pyłu w połączeniu z nową linią akcesoriów, to optymalne rozwiązanie do efektywnego szlifowania.
Półmaski 3M™ Aura™ 9300+ są rezultatem ciągłego dążenia 3M do zwiększenia komfortu. Mają wiele niezwykłych cech. Powstały z wykorzystaniem innowacyjnych technologii i materiałów, ale równocześnie zachowały wiele zalet, które zadecydowały o wyjątkowej popularności serii 9300.
Wielootworowe krążki ścierne Cubitron ™ II to maksymalna wydajność i szybkość szlifowania.
Dysk Cubitron II wykonany jest z zastosowaniem rewolucyjnej technologii precyzyjnego kształtowania ziaren ściernych zaprojektowane z bardzo ostrych, szybko ostrzących się ziaren.
Dysk Cubitron II wykonany jest z zastosowaniem rewolucyjnej technologii precyzyjnego kształtowania ziaren ściernych zaprojektowane z bardzo ostrych, szybko ostrzących się ziaren.
Nowa seria dwustronnych gąbek do polerowania wraz z adaptorem do szybkiej wymiany, w połączeniu z pastami i mleczkami firmy 3M pozwala osiągnąć perfekcyjne wykończenie
Nowa seria dwustronnych gąbek do polerowania wraz z adaptorem do szybkiej wymiany, w połączeniu z pastami i mleczkami firmy 3M pozwala osiągnąć perfekcyjne wykończenie
Nowa seria dwustronnych gąbek do polerowania wraz z adaptorem do szybkiej wymiany, w połączeniu z pastami i mleczkami firmy 3M pozwala osiągnąć perfekcyjne wykończenie
Elastyczny Dysk Ścierny Dust Free przeznaczony do szlifowania na sucho. Dysk zapewnia doskonałe wykończenie powierzchni dzięki elastycznej konstrukcji, która dostosowuje się do każdej powierzchni.
Elastyczny Dysk Ścierny Dust Free przeznaczony do szlifowania na sucho. Dysk zapewnia doskonałe wykończenie powierzchni dzięki elastycznej konstrukcji, która dostosowuje się do każdej powierzchni.
Elastyczne dyski ścierne na gąbce Hookit™ zawierają miękką podkładkę, która pozwala na efektywne i bardzo szybkie matowanie powierzchni. Można ich używać zarówno na sucho, jak i na mokro.
Elastyczne dyski ścierne na gąbce Hookit™ zawierają miękką podkładkę, która pozwala na efektywne i bardzo szybkie matowanie powierzchni. Można ich używać zarówno na sucho, jak i na mokro.
Elastyczne dyski ścierne na gąbce Hookit™ zawierają miękką podkładkę, która pozwala na efektywne i bardzo szybkie matowanie powierzchni. Można ich używać zarówno na sucho, jak i na mokro.
Elastyczne dyski ścierne na gąbce Hookit™ zawierają miękką podkładkę, która pozwala na efektywne i bardzo szybkie matowanie powierzchni. Można ich używać zarówno na sucho, jak i na mokro.
Elastyczne dyski ścierne na gąbce Hookit™ zawierają miękką podkładkę, która pozwala na efektywne i bardzo szybkie matowanie powierzchni. Można ich używać zarówno na sucho, jak i na mokro.
Filtr cząstek stałych P1 5911 3M zapewnia ochronę przed szeroką gamą pyłów, mgieł i innych cząstek. Pasuje do półmasek i masek pełnych 3M™ serii 6000 oraz 7000.
Filtr cząstek stałych 5935 zapewnia ochronę przed cząstkami substancji stałych i ciekłych.
Filtr węglowy klasy A1. Chroni przed gazami i parami pochodzenia organicznego.